挑戰(zhàn)

很多工藝使用無機酸作為重要原料。在確定特定應用的適用性時，尤其是在確定該應用對工藝和產品的影響時，準確評估酸的質量是至關重要的。

酸中的可溶性雜質會影響生產工藝和產品質量。過量的有機污染物帶來以下問題：

- 生產工藝效率低下

- 產品被污染

- 生產批次不合格

- 工藝和產品偏差

化工行業(yè)都需要確定和控制無機酸的質量。這些行業(yè)包括：原料藥物（API，Active Pharmaceutical  Ingredient）、化肥、半導體加工、化學衍生物。酸用于離子交換樹脂再生，也可以是產品配方的原料。

在半導體行業(yè)中，硫酸用于晶圓蝕刻工藝。酸的純度和潔凈度對生產至關重要，這就要求硫酸供應商對產品批次進行污染控制，以滿足工藝要求。很多行業(yè)在電鍍工藝中使用硫酸銅。為了提高化學品的性能，生產商添加有機基體的勻染劑和增白劑。了解添加劑的用量及其潛在的分解物，有助于控制產品質量和工藝。

解決方案

由于有機污染物的種類繁多，用總有機碳（TOC，Total  Organic Carbon）作為評估酸質量的參數(shù)不失為測量樣品雜質的有效方法。但是，分析儀器必須具有酸基體的化學耐受性，并能在低 pH 值下有效氧化有機碳，這樣才能得到正確的測量結果。

Sievers InnovOxES實驗室型TOC 分析儀采用超臨界水氧化（SCWO，Supercritical Water Oxidation）技術來測量酸溶液中的TOC 的ppm 和ppb 含量。事實證明，SCWO 技術能夠對磷酸、鹽酸、硝酸、硫酸進行精準的TOC 定量分析。

技術

Sievers InnovOx實驗室型分析儀采用SCWO 技術，將有機碳分子氧化成CO2，然后用非分散紅外（NDIR，Non-dispersive Infrared）檢測技術進行精確定量。在使用SCWO 技術時，先在水的臨界點以上對樣品進行加熱和加壓。在一定條件下（375?C 和 220 巴），水成為超臨界流體，水中的有機物高度可溶，而無機鹽不溶。這就提高了氧化效率，能夠精確測量腐蝕性和復雜基質中的 TOC，甚至濃酸中的 TOC。

硫酸中含有來自其自身生產過程的各種雜質，包括有機污染物。這些污染物即使含量極低，也會給要求使用高純度原料的工藝帶來風險，尤其是給半導體和電化學沉積工藝帶來風險。因此，為了優(yōu)化工藝操作、提供產量，必須對酸的質量進行定量分析。

硫酸（H2SO4）

在測試中，向H2SO4中加入不同濃度的鄰苯二甲酸氫鉀（KHP），以此來評估Sievers InnovOx 實驗室型分析儀的分析硫酸中TOC 的能力。將96%濃度的ACS 級硫酸稀釋到24%，然后分別加入0.2、0.5 和2  ppm TOC 的 KHP，進而證明了分析儀的分析能力。

分析在0 - 100ppm范圍內進行，由于樣品的pH 值適用于TOC 分析，故無需使用酸劑。10%過硫酸鈉氧 化劑足以分析此范圍的TOC。

表中的分析數(shù)據(jù)包括加標濃度、測自空白24%硫酸溶液的TOC、實測 TOC、以及回收 TOC 的含量和百分比。回收的TOC 值等于實測TOC 減去空白TOC。

表中的數(shù)據(jù)證明了分析儀能夠定量分析濃酸溶液中的低濃度TOC。當TOC 從2 ppm 降至0.2 ppm 時，回收率百分比就會從100%偏離，這主要是因為加標濃度（200 ppb）接近空白濃度（180 ppb）。在這種低濃度下，空白濃度或儀器基線的波動會導致結果的波動。